Технология производства полупроводниковых приборов

В книге рассматриваются основные технологические процессы, используемые в производстве полупроводниковых приборов и полупроводниковых интегральных схем. Наибольшее внимание уделено процессам вплавления-рекристаллизации и диффузии, в результате которых образуется электронно-дырочный переход. Вторая часть книги посвящена планарной технологии, широко применяемой для изготовления кремниевых диодов, транзисторов и интегральных схем. Рассмотрены: фотолитография; получение пассивирующих слоёв двуокиси кремния на кремнии; принципы построения интегральных схем на основе полевых транзисторов типа «металл — окисел — полупроводник». Книга предназначена для инженерно-технических работников, занимающихся конструированием и производством полупроводниковых приборов, а также будет полезна студентам высших учебных заведений, специализирующихся в области полупроводниковой электроники. Авторы: Р. А. Гаврилов (Роман Александрович Гаврилов), А. М. Скворцов (Альберт Матвеевич Скворцов).