Описание
Отзывы
Описание
Книга представляет собой сборник лекций, прочитанных известными специалистами из многих стран на симпозиуме по математическому моделированию технологических процессов изготовления кремниевых интегральных схем (ИС) и исследованию электрических характеристик их основных элементов — МОП-транзисторов.
В издании рассмотрены:
Издание является переводом работы, первоначально опубликованной в 1983 году издательством Martinus Nijhoff Publishers (Гаага, Нидерланды). Для советского издания (1988 г.) текст был адаптирован, дополнен примечаниями переводчиков и редактора.
Цель публикации в СССР — предоставить отечественным специалистам доступ к передовым зарубежным разработкам в области моделирования микроэлектронных процессов. В период активного развития микроэлектроники такие знания были критически важны для совершенствования технологий производства ИС, сокращения времени разработки новых устройств и повышения их надёжности.
В издании рассмотрены:
- модели диффузии, ионной имплантации, окисления, отжига, литографии, осаждения и травления;
- модели, описывающие функционирование МОП-транзисторов;
- алгоритмы моделирования технологических процессов и приборов на основе МОП-структур (включая одно- и двумерное математическое моделирование);
- методы стыковки программ моделирования технологических процессов с программами расчёта характеристик приборов;
- анализ двумерных эффектов, важных при уменьшении размеров элементов ИС.
Издание является переводом работы, первоначально опубликованной в 1983 году издательством Martinus Nijhoff Publishers (Гаага, Нидерланды). Для советского издания (1988 г.) текст был адаптирован, дополнен примечаниями переводчиков и редактора.
Цель публикации в СССР — предоставить отечественным специалистам доступ к передовым зарубежным разработкам в области моделирования микроэлектронных процессов. В период активного развития микроэлектроники такие знания были критически важны для совершенствования технологий производства ИС, сокращения времени разработки новых устройств и повышения их надёжности.
- Авторы (редакторы сборника): П. Антонетти, Д. Антониадис, Р. Даттон, У. Оулдхем — ведущие зарубежные специалисты в области моделирования технологических процессов микроэлектроники.
- Переводчики: В. Л. Кустов, В. М. Петров, О. В. Селляхова.
- Редактор перевода: Р. А. Сурис.
- Издательство: «Радио и связь» (Москва, СССР).
- Год издания: 1988.
- ISBN: 5-256-00130-2.
- Объём: 496 страниц.
- Формат: твёрдый переплёт, офсетная бумага.
- Оригинальное название (на английском): «Process and Device Simulation for MOS-VLSI Circuits»
Отзывы
Отзывов еще никто не оставлял
