(0)
Наличие: В наличии Нет в наличии
Предзаказ

МОП-СБИС. Моделирование элементов и технологических процессов

Купить в 1 клик
Добавить в сравнение
Выбрать
    Описание
    Отзывы
    Описание
    Книга представляет собой сборник лекций, прочитанных известными специалистами из многих стран на симпозиуме по математическому моделированию технологических процессов изготовления кремниевых интегральных схем (ИС) и исследованию электрических характеристик их основных элементов — МОП-транзисторов.

    В издании рассмотрены:
    • модели диффузии, ионной имплантации, окисления, отжига, литографии, осаждения и травления;
    • модели, описывающие функционирование МОП-транзисторов;
    • алгоритмы моделирования технологических процессов и приборов на основе МОП-структур (включая одно- и двумерное математическое моделирование);
    • методы стыковки программ моделирования технологических процессов с программами расчёта характеристик приборов;
    • анализ двумерных эффектов, важных при уменьшении размеров элементов ИС.
    Книга содержит 32 таблицы, 299 иллюстраций и список литературы из 737 источников. Предназначена для специалистов в области математического моделирования в микроэлектронике, разработчиков кремниевых ИС, технологов, а также аспирантов и студентов соответствующих специальностей.

    Издание является переводом работы, первоначально опубликованной в 1983 году издательством Martinus Nijhoff Publishers (Гаага, Нидерланды). Для советского издания (1988 г.) текст был адаптирован, дополнен примечаниями переводчиков и редактора.

    Цель публикации в СССР — предоставить отечественным специалистам доступ к передовым зарубежным разработкам в области моделирования микроэлектронных процессов. В период активного развития микроэлектроники такие знания были критически важны для совершенствования технологий производства ИС, сокращения времени разработки новых устройств и повышения их надёжности.
    • Авторы (редакторы сборника): П. Антонетти, Д. Антониадис, Р. Даттон, У. Оулдхем — ведущие зарубежные специалисты в области моделирования технологических процессов микроэлектроники.
    • Переводчики: В. Л. Кустов, В. М. Петров, О. В. Селляхова.
    • Редактор перевода: Р. А. Сурис.
    • Издательство: «Радио и связь» (Москва, СССР).
    • Год издания: 1988.
    • ISBN: 5-256-00130-2.
    • Объём: 496 страниц.
    • Формат: твёрдый переплёт, офсетная бумага.
    • Оригинальное название (на английском): «Process and Device Simulation for MOS-VLSI Circuits»
    Отзывы
    Отзывов еще никто не оставлял
    Обратный звонок
    Запрос успешно отправлен!
    Имя *
    Телефон *
    Предзаказ
    Предзаказ успешно отправлен!
    Имя *
    Телефон *
    Добавить в корзину
    Название товара
    100 ₽
    1 шт.
    Перейти в корзину
    Заявка

    Я ознакомлен и согласен с условиями оферты и политики конфиденциальности.

    Заказ в один клик

    Я ознакомлен и согласен с условиями оферты и политики конфиденциальности.